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          鶴壁低溫恒溫反應浴 槽原理 DFY-5/10

        • 2022-09-28 15:34 2922
        • 產品價格:面議
        • 發貨地址:河南鄭州鞏義市 包裝說明:不限
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        容積:10L空載調節范圍:-60-98℃恒溫精度:±0.5℃制冷量:380-2600實用開口徑:Φ200(mm)
        低溫恒溫槽應用范圍: 對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等
        低溫恒溫反應浴是參照日本東京理化器械株式會社的產品生產的一種新型實驗儀器,特別適用于密閉條件下的有機合成及其他化學反應,是現代化學、生物制藥及化學制藥等實驗、大專院校、科研院所的設備
        鶴壁低溫恒溫反應浴 槽原理
        在使用低溫恒溫槽是,一般情況下不要自行修改各個參數,除測量值修正可以修改; 低溫恒溫槽使用電源50Hz 220V,電源的功率一定要大于或者等于一起的總功率,電源bi須要有良好的"接地"裝置。
        鶴壁低溫恒溫反應浴 槽原理
        底部帶有磁力攪拌,可帶動槽內磁力攪拌,使溫度充分均勻,
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        特點:采用全封閉壓縮機制冷,具有降溫速度快、噪音低、性能、質量可靠等特點。
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